研磨機廣泛用于LED藍寶石襯底、光學玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接*各種材料的單面研磨、拋光。是一種精細研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平坦的研磨盤上，研磨盤逆時針滾動，皮帶輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方法對工件施壓，工件與研磨盤作相對運動磨擦，來達到研磨拋光的目的。合理選擇正確的研磨設(shè)備也是很重要的。
你知道雙單面研磨機和單面研磨機有什么不同之處？
平面研磨機分為單面和雙面。單面研磨機是一次只能研磨工件一個面的機器，雙單面研磨機則是一次性能夠一起對工件的正反兩個面一起進行研磨拋光。
雙單面研磨機和單面研磨機有許多類似點，也有一些不一樣之處。類似的當?shù)赜校O(shè)備的設(shè)備基本相同，同一類型工件所用的耗材和裝備是相同的。
機器的研磨原理和適用范圍是相同的。不一樣的當?shù)乇砣缃耠p單面研磨機上面有兩個研磨盤，上研磨盤和下研磨盤，兩者平行。而單面研磨機上只要一個研磨盤。其次，兩者固定工件的方法有些不相同。
單面研磨機的作業(yè)原理：將被磨、拋材料放于研磨盤上，研磨盤逆時鐘滾動，批改輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方法對工件施壓，工件與研磨盤作相對作業(yè)磨擦，來到達研磨拋光意圖。研磨盤修整組織采用油壓懸浮導(dǎo)軌前后往復(fù)運動，金剛石修面刀給研磨盤的研磨面進行精細修整，得到抱負的平面效果。
雙單面研磨機的作業(yè)原理：上、下研磨盤作相反方向滾動，工件在載體內(nèi)作既公轉(zhuǎn)又自轉(zhuǎn)的游星運動。磨削阻力小不損害工件，并且雙面均勻磨削出產(chǎn)功率高。有光柵厚度操控系統(tǒng)，加工后的商品厚度公役可操控。雙單面研磨機的設(shè)備包含兩個研磨盤，游輪，四個電機，太陽輪，修面機等。
地址：北京市昌平區(qū)北七家鎮(zhèn)宏福10號院1號樓4032室
郵箱：
傳真：86-010-82465427